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HCL在线监测系统

半导体激光气体分析仪

半导体激光气体分析仪是基于半导体激光吸收光谱(DLAS)技术,无须采样预处理系统,能够在高温、高粉尘、高腐蚀等恶劣的环境下进行在线气体浓度测量的高端分析仪表采用防爆设计。半导体激光吸收光谱(DLAS) 技术利用激光能量被气体分子 “选频”吸收形成吸收光谱的原理来测量气体浓度。由于半导体激 光器发射出特定波长的激光束( 仅能被被测气体吸收),穿过被 测气体时, 激光强度的衰减与被测气体的浓度成一定的函数关系,因此通过测量激光强度衰减信息就可以分析获得被测气体的浓度。

产品特点

●   原位测量,检测灵敏度高,响应速度快一体化设计,结构紧凑可靠性高

●   采用正压防爆设计,内置标准物质,实时锁定激光波长,使仪表更稳定

●   通过温压补偿,自动修正环境参数变化对测量的影响,不受背景气体交叉干扰的影响,自动修正粉尘和视窗污染对测量浓度的影响

 

技术指标:

项目

指标

响应时间

<60S

重复性

1%

线性误差

<±1.0% F.S

报警输出(种类、点数)

系统故障报警、加热盒温度异常报警、运行状态异常报警

模拟量输出

4~20mA输出,隔离,最大负载750Ω

通讯接口

RS485,双端隔离

分析仪表尺寸及重量

600X560X250(宽高深,未含附件);≤35kg

采样、反吹周期

可设置

动力气源

压力0.3~0.8MPa ,无油无水净化空气

取样气体温度

≤200℃

工作电压

AC 200 V - 240 V 50Hz

系统220VAC电负荷

3KW

环境温度

-40 ℃~ 60 ℃

 

常规组分与量程

组分

10ppm

100ppm

1000ppm

1%

10%

100%

NH3

HF

HCL

O2

×

×

×

CO

CO2

CH4

N2O

×

×

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